Nagy tisztaságú szeléntisztítási eljárások

Hír

Nagy tisztaságú szeléntisztítási eljárások

A nagy tisztaságú szelén (≥99,999%) tisztítása fizikai és kémiai módszerek kombinációját foglalja magában a szennyeződések, például a Te, Pb, Fe és As eltávolítására. A következők a fő folyamatok és paraméterek:

 硒块

1. Vákuumdesztilláció

Folyamatfolyamat:

1. Helyezzen nyers szelént (≥99,9%) egy kvarctégelybe egy vákuumdesztillációs kemencében.

2. Melegítse 300-500°C-ra vákuum alatt (1-100 Pa) 60-180 percig.

3. A szeléngőz egy kétlépcsős kondenzátorban kondenzálódik (alsó fokozat Pb/Cu részecskékkel, felső fokozat a szelén összegyűjtésére).

4. Gyűjtse össze a szelént a felső kondenzátorból; a 碲(Te) és más magas forráspontú szennyeződések az alsó fokozatban maradnak.

 

Paraméterek:

- Hőmérséklet: 300-500°C

- Nyomás: 1-100 Pa

- Kondenzátor anyaga: kvarc vagy rozsdamentes acél.

 

2. Kémiai tisztítás + Vákuumdesztilláció

Folyamatfolyamat:

1. Oxidációs égés: A nyers szelén (99,9%) reakciója O₂-vel 500°C-on SeO₂ és TeO₂ gázokat képez.

2. Oldószeres extrakció: Oldjuk fel a SeO₂-t etanol-víz oldatban, majd szűrjük ki a TeO₂ csapadékot.

3. Redukció: Hidrazinnal (N₂H₄) redukáljuk a SeO₂-t elemi szelénné.

4. Mély De-Te: A szelént ismét SeO₄²⁻-vá oxidáljuk, majd oldószeres extrakcióval kivonjuk a Te-t.

5. Végső vákuumdesztilláció: A szelént 300-500°C-on és 1-100 Pa nyomáson tisztítjuk, hogy elérjük a 6N (99,9999%) tisztaságot.

 

Paraméterek:

- Oxidációs hőmérséklet: 500°C

- Hidrazin adagolása: A teljes csökkenés biztosítása érdekében túladagolás.

 

3. Elektrolitikus tisztítás

Folyamatfolyamat:

1. Használjon 5-10 A/dm² áramsűrűségű elektrolitot (pl. szelénesavat).

2. A szelén lerakódik a katódon, míg a szelén-oxidok elpárolognak az anódon.

 

Paraméterek:

- Áramsűrűség: 5-10 A/dm²

- Elektrolit: Szelénsav vagy szelenátoldat.

 

4. Oldószeres extrakció

Folyamatfolyamat:

1. Kivonjuk a Se⁴⁺-t az oldatból TBP-vel (tributil-foszfát) vagy TOA-val (trioktil-amin) sósavas vagy kénsavas közegben.

2. A szelént lecsöpögtetjük és kicsapjuk, majd átkristályosítjuk.

 

Paraméterek:

- Extrahálószer: TBP (HCl közeg) vagy TOA (H₂SO₄ közeg)

- Szakaszok száma: 2-3.

 

5. Zónaolvadás

Folyamatfolyamat:

1. A szelénöntvények ismételt zónaolvasztása a nyomokban előforduló szennyeződések eltávolítása érdekében.

2. Alkalmas >5N tisztaság elérésére nagy tisztaságú kiindulási anyagokból.

 

Megjegyzés: Speciális felszerelést igényel és energiaigényes.

 

Ábrajavaslat

Vizuális referenciaként lásd az alábbi ábrákat az irodalomból:

- Vákuumdesztillációs beállítás: Kétlépcsős kondenzátorrendszer vázlata.

- Se-Te fázisdiagram: A közeli forráspontok miatti elválasztási kihívásokat szemlélteti.

 

Referenciák

- Vákuumdesztilláció és kémiai módszerek:

- Elektrolitikus és oldószeres extrakció:

- Haladó technikák és kihívások:


Közzététel ideje: 2025. márc. 21.